一、開(kāi)爐溫度的關(guān)鍵作用

沉積爐升溫后何時(shí)開(kāi)爐，就像烘焙蛋糕時(shí)決定何時(shí)打開(kāi)烤箱門(mén)——太早會(huì)塌陷，太晚可能烤焦。對(duì)于多數(shù)沉積工藝，爐溫降至300-400℃時(shí)開(kāi)爐較為合適。這個(gè)溫度區(qū)間既能保證沉積層穩(wěn)定，又避免高溫開(kāi)爐導(dǎo)致的材料氧化或熱應(yīng)力損傷。

二、溫度選擇的三大考量

1. 材料特性：不同基材對(duì)溫度敏感度差異大，金屬件通常比陶瓷件能承受更高開(kāi)爐溫度

2. 沉積類型：化學(xué)氣相沉積（CVD）比物理氣相沉積（PVD）需要更嚴(yán)格控溫

3. 工藝要求：精密器件往往需要更低開(kāi)爐溫度來(lái)保證尺寸精度

三、操作中的實(shí)用技巧

實(shí)際操作時(shí)建議分步觀察：先讓爐體自然降溫至目標(biāo)區(qū)間，打開(kāi)觀察窗檢查沉積層狀態(tài)。若表面均勻無(wú)裂紋，可逐步開(kāi)啟爐門(mén)。記住用紅外測(cè)溫儀實(shí)時(shí)監(jiān)控，避免溫度驟變。初始嘗試新工藝時(shí)，建議從較高溫度開(kāi)始測(cè)試，逐步優(yōu)化至理想開(kāi)爐點(diǎn)。